外媒：美荷聯手加強對中晶片管制　限制ASML出口維修服務

圖文／CTWANT

隨著美中競爭局勢緊張，近期荷蘭與美國政府將對全球最大曝光機廠商艾司摩爾（ASML）祭出更多限制。據彭博社引述美國政府匿名官員報導，荷蘭在6月份推出的新法令，要求ASML須先獲政府許可，才能為受管控的設備提供維修和備件服務；美國則將限制ASML販售深紫外光（DUV）設備至約6家中國工廠，包括中芯（SMIC）。

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根據報導，拜登政府將援引「外國直接產品規則」（FDPR）對中國半導體企業進行限制。FDPR規定若外國設備供應商的產品含有美國零組件，即使占比很低，美國政府仍可限制銷售。

根據報導，荷蘭最新規定從9月開始，禁止ASML在未取得政府許可的情況下，出口DUV微影設備到中國。美國也禁止ASML在未獲其允許下，向中國六間廠商出售舊型的DUV曝光機，消息人士指出其中一間廠商是中芯國際旗下的工廠。

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先前川普政府便是引用相同規則，針對華為限制相關技術出口，使該公司數年內在智慧型手機和5G相關設備市場失去競爭能力。因此中國半導體企業在遭受FDPR同樣待遇後，預計數年內將嚴重影響中國半導體的各項開發與生產計畫。

半導體研究公司SemiAnalysis創辦人帕特爾（Dylan Patel）表示，荷蘭跟隨美國腳步，不希望中國擁有生產最先進半導體的能力。若中國半導體企業無法獲得荷蘭的曝光機設備，將在全球的先進邏輯和記憶體晶片市場中，處於劣勢。帕特爾認為，新管制將大幅限縮中國晶片業者未來的計畫。他們將被迫延後、甚至取消某些較先進製程技術的開發計畫。

報導指出，新的美荷聯手管制措施，除遏制中國升級晶片製造能力以外，一定時間後，也可能削弱中國企業在相對先進晶片方面，建立起的現有產能。主因為中國國內能提供維修服務、或替換外國設備零組件的選項較少，而ASML在關鍵的DUV設備又幾乎是壟斷地位。