發布時間:2025/1/18 15:50
記者莊蕙如/綜合報導
檢測分析領域的先行者汎銓科技(6830-TW)近日宣布成功取得台灣與日本核發的「矽光子光損偵測裝置」發明專利,進一步搶占矽光子市場中的檢測技術先機。受利多消息激勵,本週汎銓股價大幅上揚,一度攀升至184元,週五最終收盤於176.5元,整週漲幅高達15.36%,創下近兩個月以來的股價新高。
汎銓日前指出,對該技術的應用前景充滿信心,認為新工法可以更準確地識別導光通道內的潛在問題,協助優化矽光子積體光路的表現。同時,這項專利技術也將為未來光電子產業的發展注入全新動能,進一步奠定汎銓在光子技術領域的領導地位。
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汎銓表示,除了已獲得的台日專利,公司正在積極推進歐洲、美國、韓國及中國的專利申請。該技術核心在於專門檢測半導體導光晶片中導光通道的異常現象,包括光線衰減、漏光與斷光等問題。這項發明不僅填補了矽光子積體光路(PIC)檢測技術的空白,還能有效解決相關技術瓶頸,進一步提升導光晶片的穩定性與性能。
本次專利的成功獲批,標誌著汎銓在全球檢測分析市場中邁出了重要一步,也展現出公司在高技術門檻領域的持續創新能力與競爭優勢。
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