【半導體研發急先鋒1】汎銓為了結構分析蓋新廠　全力進攻半導體埃米世代

圖文／鏡周刊

日前汎銓科技舉辦新廠上樑典禮，汎銓董事長柳紀綸在活動致詞上表示，當先進製程到2奈米以下，有一些原子結構分析必須要很好的廠房來予以支撐，而這廠房將會是支持材料分析（MA）的重要基地，幫助客戶全力進攻埃米世代，預計在今年8月正式營運。

「前兩天客戶擴廠典禮，可以清楚知道（客戶）2奈米研發告一段落，而且很順利。」汎銓董事長柳紀綸表示。現在我們就是在忙2奈米以下的東西，有一些東西客戶要求的尺規很細，細到需要拍攝原子級畫面來進行分析，也是因為這樣，汎銓特地蓋新廠，就是為了這單一客戶進入埃米（2奈米以下的製程節點）而建。

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雖然汎銓沒直接點名客戶是誰，但就目前市場上可得知，目前2奈米生產進度最快的業者，就屬護國神山台積電。

「為了結構分析蓋廠房，許多人應該沒看過這回事吧！」柳紀綸半開玩笑地說道。他表示，當製程進入到埃米時代，就需要拍攝到非常細的畫面，例如1奈米是頭髮的10萬分之一，需要拍攝到原子結構的邊線，稍微一點抖動都不行，一定要非常清楚，即便是多好的設備，只要旁邊有人走動、咳嗽、踏步，又或者設備本身受到電磁波、接地干擾都不允許。「受到一丁點干擾，影像畫面就會糊糊的，客戶不會接受」柳紀綸拉高語氣。

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正是因為如此，柳紀綸進一步指出，新廠場地的防震、環境電磁場抗干擾都要是非常高規格呈現，每一台穿透式電子顯微鏡（TEM）設備都配備高達7至10公尺長的離子接地線，同時更在周圍加裝抗電磁波干擾的設備，大多數的工廠與場地很難有這樣的規格。不僅如此，在地板的處理上，光是地基就灌了2公尺深的地板，並在表層添加特殊材質，用力一壓會有彈性，為的就是要降低噪音、震動等問題。

柳紀綸指出，這個新廠約佔地600坪大，一半則主要用來放置雙束聚焦離子束（Dual Beam FIB）設備，一台要價約170至180美元；一半則用於放置穿透式電子顯微鏡，一台要價約400至500美元。

柳紀綸透露，新廠建置速度非常快，去年11月開工的時候還是一片泥土，現在基本的架構、地板都已經建置差不多，預計今年6月會開始陸續進設備，初期會先有一台穿透式電子顯微鏡、兩台雙束聚焦離子束設備，後續會慢慢增加。

柳紀綸表示，這座新廠為汎銓埃米世代材料分析專區「SAC-TEM Center」，同時汎銓也啟動在美國矽谷設立子公司MSS USA CORP並建立新廠，負責5奈米、2奈米研發，預計於今年5月開幕。除了新廠外，在材料分析本部與竹北二廠，也另設有專門負責埃米世代1.0奈米至1.4奈米製程材料分析相關業務，助力半導體業者加速先進製程研發。

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