【半導體埃米奇兵1】汎銓成曝光機巨頭神隊友　董座大秀公司接單「底氣」何在

 

圖文／鏡週刊

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AI(人工智慧)帶動半導體製程從奈米邁向埃米(奈米的1/10)，包括台積電、英特爾(Intel)、三星(Samsung)等半導體製造大廠都磨刀霍霍，讓先進製程研發檢測的需求十分火紅，台廠也有幸參與其中，成了市場關注焦點。

成立於2005年的汎銓科技3年前就看準此趨勢，大力押寶，配合全球顯影機龍頭艾司摩爾(ASML)開發埃米級的High-NA EUV設備，提供光阻劑材料分析，這份「底氣」更讓汎銓董事長柳紀綸霸氣直言：「訂單接不完，只差新人的專業訓練學習曲線快速跟上。」

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「你們知道嗎？2奈米以下的埃米製程，大家的學習曲線都還在克服，客戶的樣品取得不易，送過來的樣品幾乎是唯一，不能做死(壞)掉，以至於我們也不輕易讓新手亂練，除非有更多的樣品。」汎銓董事長柳紀綸日前透過媒體記者會，向大家說明檢測行業的特性，指出半導體製程越高階，就更吃老手的品管經驗，目前埃米製程因AI迅速發展帶動半導體大廠加速佈局，偏偏這類的投資不斐，讓客戶送樣更加謹慎，連帶也牽動公司培訓的時間跟著拉長。

「以往，5奈米以上的檢測服務，一個新手從上手到練好，大概3個月到半年，我推估2奈米以下至少要9個月以上。」柳紀綸一邊分析一邊仍透露，汎銓所提供的服務，是半導體研發品質不可或缺的檢測，為了替客戶生產良率做好把關，3年前早就領先同業跨入埃米世代的檢測設備開發，獲得半導體微影設備顱頭大廠艾司摩爾共同合作，取得檢測技術的領先優勢。

據了解，艾司摩爾下個月將抵台針對埃米製程推出的高數值孔徑（High-NA）顯影設備中，一台要價上百億新台幣，裡面就有引用由汎銓所做的High NA EUV光阻劑材料分析，「這種光阻液材料分析，我們從第一代產品就有參與，一路跟著客戶瞄準未來發展。」為了印證雙方的合作實績，柳紀綸親自證實。

值得注意的是，公司提供艾司摩爾High-NA光阻液分析檢測設備，也是透過自行研發的低溫原子層鍍膜技術（LT-ALD）所導入，柳紀綸說，包括低溫原子層鍍膜、導電膠與原子層導電膜，都可利用這種技術，解決顯影曝光機光阻與超低介電材料(LK)材料分析，並讓樣品保持原貌、不易變形倒榻；此外，2奈米以下的最新電晶體架構GAA(環繞式閘極場效電晶體)，需要超薄試片製備與自動量測等分析，也可透過汎銓的特殊工法技術來處理。

汎銓四大業務分別是MA（材料分析）、FA（故障分析）、SA（表面分析）、與RA（可靠度分析），其中，材料分析不但是公司，也是半導體檢測門檻最高的一塊，「我們的策略就是瞄準最先進最高階的市場，才有接不完訂單的底氣。」柳紀綸更強調，客戶需求量很明確，只要新人學習曲線可以跳升到八成，利潤就會明顯倍增。