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【半導體埃米奇兵1】汎銓成曝光機巨頭神隊友 董座大秀公司接單「底氣」何在

發布時間:2024/9/20 19:10

汎銓早在3年前就邁出腳步,助攻全球微影設備龍頭艾司摩爾(ASML)打造埃米等級顯影設備所需的光阻劑材料分析。(圖為汎銓董事長柳紀綸,本刊資料照)

 

圖文/鏡週刊

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AI(人工智慧)帶動半導體製程從奈米邁向埃米(奈米的1/10),包括台積電、英特爾(Intel)、三星(Samsung)等半導體製造大廠都磨刀霍霍,讓先進製程研發檢測的需求十分火紅,台廠也有幸參與其中,成了市場關注焦點。

成立於2005年的汎銓科技3年前就看準此趨勢,大力押寶,配合全球顯影機龍頭艾司摩爾(ASML)開發埃米級的High-NA EUV設備,提供光阻劑材料分析,這份「底氣」更讓汎銓董事長柳紀綸霸氣直言:「訂單接不完,只差新人的專業訓練學習曲線快速跟上。」

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「你們知道嗎?2奈米以下的埃米製程,大家的學習曲線都還在克服,客戶的樣品取得不易,送過來的樣品幾乎是唯一,不能做死(壞)掉,以至於我們也不輕易讓新手亂練,除非有更多的樣品。」汎銓董事長柳紀綸日前透過媒體記者會,向大家說明檢測行業的特性,指出半導體製程越高階,就更吃老手的品管經驗,目前埃米製程因AI迅速發展帶動半導體大廠加速佈局,偏偏這類的投資不斐,讓客戶送樣更加謹慎,連帶也牽動公司培訓的時間跟著拉長。

「以往,5奈米以上的檢測服務,一個新手從上手到練好,大概3個月到半年,我推估2奈米以下至少要9個月以上。」柳紀綸一邊分析一邊仍透露,汎銓所提供的服務,是半導體研發品質不可或缺的檢測,為了替客戶生產良率做好把關,3年前早就領先同業跨入埃米世代的檢測設備開發,獲得半導體微影設備顱頭大廠艾司摩爾共同合作,取得檢測技術的領先優勢。

據了解,艾司摩爾下個月將抵台針對埃米製程推出的高數值孔徑(High-NA)顯影設備中,一台要價上百億新台幣,裡面就有引用由汎銓所做的High NA EUV光阻劑材料分析,「這種光阻液材料分析,我們從第一代產品就有參與,一路跟著客戶瞄準未來發展。」為了印證雙方的合作實績,柳紀綸親自證實。

值得注意的是,公司提供艾司摩爾High-NA光阻液分析檢測設備,也是透過自行研發的低溫原子層鍍膜技術(LT-ALD)所導入,柳紀綸說,包括低溫原子層鍍膜、導電膠與原子層導電膜,都可利用這種技術,解決顯影曝光機光阻與超低介電材料(LK)材料分析,並讓樣品保持原貌、不易變形倒榻;此外,2奈米以下的最新電晶體架構GAA(環繞式閘極場效電晶體),需要超薄試片製備與自動量測等分析,也可透過汎銓的特殊工法技術來處理。

汎銓四大業務分別是MA(材料分析)、FA(故障分析)、SA(表面分析)、與RA(可靠度分析),其中,材料分析不但是公司,也是半導體檢測門檻最高的一塊,「我們的策略就是瞄準最先進最高階的市場,才有接不完訂單的底氣。」柳紀綸更強調,客戶需求量很明確,只要新人學習曲線可以跳升到八成,利潤就會明顯倍增。


 
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