發布時間:2025/9/24 09:00
記者莊蕙如/綜合報導
隨著AI伺服器與高效能運算(HPC)晶片功耗狂飆,散熱已成為下一世代GPU最棘手的難題。碳化矽(SiC)材料因具備優異導熱性能,被視為突破口,而環球晶正憑藉其晶圓切割與研磨技術,搶先握住這張通往未來的關鍵門票。
目前輝達(NVIDIA)Blackwell GPU仍採石墨TIM,預計下一代Rubin GPU也將延用石墨。然而,法人指出,當AI運算能耗持續攀升,業界早已著手開發包括金屬銦、液態金屬與SiC在內的新材料,以應付未來散熱挑戰。其中,SiC carrier/TIM若採多晶方案,並搭配6吋或8吋基板,製造難度相對降低,但短期內(一至二年)仍難以量產,僅可能在Rubin Ultra GPU階段小量測試,真正導入量產最快也要等到Feynman GPU世代。
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環球晶在近期SEMICON Taiwan展會中首度揭露,已成功開發出12吋單晶與多晶SiC原型晶圓,並同步布局SiC中介層(interposer)與SiC carrier,顯示其企圖心不僅止於原料,更直攻先進封裝應用。據了解,此技術並非市場盛傳的鍍膜概念,而是以完整SiC carrier wafer直接貼合,因散熱效率遠優於鍍膜方式,能大幅提升GPU熱導能力。至於導電部分,仍透過矽中介層運作,等同在傳統封裝流程中額外增加一片SiC carrier,以強化整體散熱效能。
法人分析,環球晶憑藉wafering實力與長期客戶關係,極有機會在AI GPU世代散熱解方中奪下先行優勢。市場對此題材高度期待,資本動能率先反應。自9月8日以來,環球晶股價已狂漲逾3成,遠勝大盤5%漲幅。法人認為,此波漲勢不僅反映對SiC應用的憧憬,同時也受惠於NAND與傳統DRAM需求的復甦,進一步鞏固其半導體領頭羊地位。
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