台積電魏哲家密訪ASML！先進製程軍備賽敲鑼　較勁英特爾、三星

記者曾奕語／綜合報導

台灣晶圓代工龍頭台積電早前曾表示，荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）的高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV）太貴，在2026年前使用並沒有太大的經濟效益。但現有業界消息與外媒披露，台積電總裁魏哲家近日密訪艾司摩爾總部，上述說法是否將被推翻，引發外界揣測。

綜合《Business Korea》及《Wccftech》等報導，台積電總裁魏哲家23日未出席自家舉辦的「台積電2024技術論壇」，而是前往荷蘭艾司摩爾總部以及德國工業雷射公司TRUMPF祕密訪問，可見台積電與同業英特爾（Intel）、三星（Samsung）的設備爭奪競賽，暗潮洶湧。

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艾司摩爾高數值孔徑EUV設備，去年由英特爾拔得頭籌，據悉艾司摩爾截至2025年上半年絕大多數新型High-NA EUV曝光機訂單，都已被英特爾買下。另外，三星電子也早就動起來，會長李在鎔去年就曾訪問艾司摩爾，強化韓荷兩國「半導體同盟」關係。

而本次魏哲家的祕密行程曝光，是由於艾司摩爾執行長富凱（Christophe Fouquet）與TRUMPF執行長卡穆勒（Nicola Leibinger-Kammüller）在社群媒體上發文，富凱分享：「我們向魏總裁介紹我們最新技術與產品，包括High-NA EUV曝光機將如何實現未來半導體的微製程技術」。

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台積電資深高層曾經透露，雖然喜歡High-NA EUV機台的功能，但售價過於昂貴，公司預計在A16製程技術後的產品，再考慮使用High-NA EUV曝光技術。不過，隨著魏哲家密訪艾司摩爾總部的行程曝光，外媒推測，台積電為了站穩全球半導體的主導地位，可能正在重新思考對於曝光技術的策略轉向。