發布時間:2026/7/28 18:00
記者陳雅婷/綜合報導
中國自製浸潤式深紫外光曝光機(DUV)傳出進入生產階段,引發市場關注半導體設備供應鏈變化。不過台新投顧分析指出,中國DUV目前仍處於初期階段,在產能、技術成熟度及良率方面與荷蘭艾司摩爾(ASML)仍有明顯差距,短期對台灣半導體設備股影響有限。
美國科技媒體《The Information》27日報導,中國已開始生產自主研發的DUV設備,預計今年交付中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等晶片製造商。由於DUV長期由ASML主導,消息曝光後市場憂心中國半導體設備自主化加速。
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根據路透報導,ASML股價聞訊下跌4.6%,美國設備廠應用材料、Lam Research及KLA股價也同步走弱,市場重新評估中國國產設備對全球供應鏈的長期影響。
台新投顧表示,中國自製DUV初期年產能約5台,明年預估提升至20至30台,與ASML單年約130台產能相比仍有差距。目前中國設備主要鎖定28奈米以上成熟製程及部分記憶體市場,短期內難以挑戰高階光刻設備。
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針對台灣供應鏈,台新投顧指出,台灣半導體設備廠主要受惠於,台積電先進製程、EUV、2奈米、3奈米及AI晶片需求,而中國DUV尚無法應用於EUV技術,因此對台灣先進製程設備廠商影響有限。
不過,若中國持續推動半導體設備國產化,長期可能影響以中國成熟製程晶圓廠為主要客戶的設備代理商與維修業者,美日歐設備商在中國市場也可能面臨訂單流失壓力。
整體而言,中國DUV自主化象徵半導體設備競爭格局正在改變,但短期仍難撼動ASML地位,對台股半導導體設備族群影響主要停留在市場情緒層面,基本面衝擊仍有限。
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