發布時間:2026/10/27 16:45
記者莊蕙如/綜合報導
輝達(NVIDIA)再掀AI晶片技術革命!隨GPU運算效能持續提升,晶片之間的資料傳輸效率成為下一個關鍵戰場,輝達正開發全新「中介層上整合光學」(Optics on Interposer,OOI)技術,並已推出原型樣品,計畫將光學引擎直接整合至運算晶片所在的中介層,突破傳統封裝的傳輸瓶頸。隨中介層在AI先進封裝架構中的重要性大幅提升,已提前布局相關技術的聯電(2303)、力積電(6770)可望迎來新一波商機,成為市場關注焦點。
根據輝達揭露的技術方向,OOI最大突破在於改變光學引擎的配置位置。現行部分光電整合方案將光學引擎配置於有機封裝基板,而新架構則計畫採用更大面積的中介層,直接將光學引擎移至運算晶片所在位置,縮短訊號傳輸距離,減少電訊號繞經有機基板所產生的損耗。
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業界認為,輝達GPU已帶動先進封裝產業快速成長,若未來OOI技術逐步走向商用,將進一步提高中介層的技術門檻與應用價值。尤其在AI晶片持續朝大型化、高頻寬及異質整合發展的趨勢下,具備矽中介層製造能力的晶圓代工廠,有機會切入更多高附加價值市場。
其中,聯電早已投入中介層技術研發與產能布局,目前正積極擴充相關製造能力。公司導入深溝槽電容的2.5D先進封裝方案,已開始向主要客戶出貨,主動式中介層產品也正與多家客戶進行驗證,持續擴大AI相關應用。
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聯電的先進封裝布局涵蓋矽中介層、深溝槽電容、晶圓級混合鍵結及主動式中介層等技術,並透過與封裝測試業者合作,推進相關量產方案。從晶片間高速互連、電源供應效率到異質整合,聯電正逐步擴大服務範圍,爭取更多AI客戶導入機會。
另一方面,力積電也將矽中介層列為「3D AI Foundry」策略的重要發展項目,積極調整既有生產資源,朝高附加價值晶圓代工與先進封裝相關產品發展。公司已對外展示相關關鍵零組件,並計畫結合客戶的矽智財及產品設計能力,擴大AI應用服務範圍。
在具體產能布局上,力積電規劃運用P3廠等既有資源,擴充矽中介層相關業務,同時結合深溝槽製程,發展高密度矽電容技術。其中,矽中介層主要負責晶片之間的高速訊號連接,高密度矽電容則有助於改善電源供應品質,兩項技術可相互搭配,滿足高階AI晶片對傳輸效率與供電穩定性的需求。
隨AI晶片朝更高運算密度與更複雜封裝架構發展,中介層的重要性已不再侷限於傳統晶片互連。輝達OOI技術若順利推進,將有機會帶動新一輪中介層與光電整合需求,為聯電、力積電等提前布局的台灣業者創造新商機。不過,目前OOI仍處於原型開發階段,實際量產時程、供應鏈分工及訂單規模仍待確認,相關業者能否受惠,將取決於後續技術驗證與客戶導入進度。
◎《FTNN新聞網》提醒您:本資料僅供參考,投資人應獨立判斷,審慎評估並自負投資風險。
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